Die Inhalte dieser Webseite enthalten Affiliate-Links, für die wir möglicherweise eine Vergütung erhalten.
  • Bild 1

Maschinelles Lernen-basierte Modellierung in Atomschichtabscheidungsprozessen, Hardco...

Ø 0.0
0 Bewertungen
200,71 €

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes, Hardcover by Adeleke, Oluwatobi; Karimzadeh, Sina; Jen, Tien-chien, ISBN 1032386703, ISBN-13 9781032386706, Brand New, Free P&P in the UK This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Jetzt bei Ebay: