Adeleke - Machine Learning-basierte Modellierung in atomarer Schichtabscheidung - J555z
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Establishes the need for and significance of ML applications in ALD while introducing integration approaches for ML techniques with computation simulation approaches. Explores the application of key techniques in ML, such as predictive analysis, classification techniques, feature engineering, image processing capability, and microstructural analysis of deep learning algorithms and generative model benefits in ALD.
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Fiction/Non-Fiction:Non-Fiction
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Genre/Subject:TECHNOLOGY ENGINEERING / Chemical Biochemical
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Weight:0.71
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Style:NA
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Author:AdelekeOluwatobiKarimzadehSinaJenTien-Chien
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Book Title:Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Proce
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Release Title:Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Proce
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Publisher:NA
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Language:English
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Format:book
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Film/TV Title:Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Proc
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Number of Pages:378
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Binding Type:Hardcover
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ISBN:9781032386706
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